Eine neue Entspiegelungstechnik mit Hilfe nanostrukturierter Schichtmaterialien deckt einen besonders breiten Wellenlängenbereich ab und kann auch stark gekrümmte Linsen entspiegeln. Entwickelt wurde die Technik im Rahmen des von der Carl Zeiss Jena GmbH koordinierten Projekts Fiona (Farbneutrale Interferenzschichten zur Entspiegelung unter Berücksichtigung organischer Nanostrukturen). Nanostrukturen, deren Größe unter der Lichtwellenlänge liegt, wirken auf der Oberfläche wie eine sehr niedrigbrechende Schicht. Solche Systeme zeichnen sich durch neuartige Kombinationen klassische Interferenzschichtsysteme mit solchen Nano-strukturen aus. Sub-Wellenlängenstrukturen mit einer Strukturtiefe von wenigen 100 nm wurden durch verschiedene Verfahren erzeugt. Am Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) in Jena wurde das Plasmastrukturierungsverfahrens AR-Plas angewandt, Carl Zeiss Jena legte den Schwerpunkt auf anorganische Nanostrukturen aus Siliziumdioxid und Magnesiumfluorid. Die Entspiegelungswirkung reicht vom visuellen bis in den infraroten Spektralbereich. Weitere Projektbeteiligte waren die Agfa-Gevaert Health Care GmbH, Asphericon GmbH, Leica Microsystems GmbH und die Qioptiq Photonics GmbH & Co. KG.
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